符合条件的34条专利数据 | 专利状态 | 申请人类型 | 缴费截止日 | 授权年 | 更新时间 | |
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发明 2019800014024 电容器及其制作方法 电容 储能 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2021110145312 源漏辅助可编程单栅肖特基势垒晶体管及制造方法 肖特基势垒晶体管 隧道晶体管 编程晶体管 金属-半导体接触 芯片 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2017105646822 瞬态电压抑制器及其制作方法 电压抑制器 半导体芯片 电路保护 【电压抑制器 半导体芯片 电路保护】 3人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2016109605225 一种台面二极管 二极管灯管半导体 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2021100706306 全环绕闸极垂直贯穿式晶体管及其制备方法(半导体) 半导体 2人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2020107944847 一种内台面强负阻开关二极管 二极管 电子器件 半导体 (二极管 半导体) 1人 |
未下证 | 企业 | ||||
发明 2021111329192 深浅组合肖特基势垒隧道晶体管及其制造方法 肖特基势垒晶体管 金属-半导体接触 集成电路设计制造 隧穿晶体管 栅电极 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2017105646856 瞬态电压抑制器及其制作方法 【半导体芯片制造】(半导体芯片制造 瞬态电压抑制器是一种敏感半导体器件) 【半导体芯片制造半导体芯片制造 瞬态电压抑制器是一种敏感半导体器件】 1人 H01L27/02 H01L27/08 H01L29/06 H01L29/866 H01L21/265 H01L21/266 H01L21/8222 H01L21/329 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2021108120478 一种N衬底沟槽型GaN绝缘栅双极型晶体管 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2021109149327 一种异质结注入的沟槽型GaN绝缘栅双极型晶体管 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 202210553866X 具有双沟槽的4H-SiC横向绝缘栅双极型晶体管器件 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2020111201705 一种基于SiC衬底沟槽型MPS二极管元胞结构 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2020114815910 一种具有集电极多晶硅电子通道的RC-IGBT器件 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2021107452175 一种具有电荷积累效应的超结EA-SJ-FINFET器件 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2021110612659 一种衬底集成反并联续流二极管的RC-LIGBT器件 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 202010092899X 一种具有纵向分离阳极的SA-LIGBT器件 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
发明 2021102752826 一种鳍式场效应晶体管及其制作方法(半导体) 半导体 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2020116228475 鳍式场效应管及其制作方法(半导体) 半导体 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2020115385549 一种参数化单元及其实现方法(半导体集成电路) 半导体 集成电路 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
发明 2021102132645 全环绕闸极水平贯穿式晶体管及其制备方法(半导体) 半导体 1人 |
已下证 | 企业 |