批量导出勾选专利
符合条件的2条专利数据 专利状态 申请人类型 缴费截止日 授权年 更新时间

发明 2020103606606 一种准分子激光退火设备用基板支撑装置

基本电气元件 半导体器件 基板 晶片 激光退火设备 1人

H01L21/67 H01L21/687 H01L21/268 H01L21/324

已下证 企业

发明 2020116196972 一种基于超声波磁场耦合作用硅基刻蚀高深宽比结构及其研究方法

微纳米制造 化学刻蚀 半导体制造 芯片制造 （微纳米制造 1人

H01L21/263 H01L21/268

未下证 学校