符合条件的2条专利数据 专利状态 申请人类型 缴费截止日 授权年 更新时间

发明 2020108411962 一种光刻胶去除装置(半导体)

【半导体生产 半导体芯片 芯片制造 集成电路 晶圆加工 光刻胶】 1人

G03F7/42

已下证 企业

发明 2020105515705 一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置

微电子 晶圆 硅晶圆 硅晶片 半导体 3人

H01L21/66 G03F7/42

已下证 个人