| 符合条件的29条专利数据 | 专利状态 | 申请人类型 | 缴费截止日 | 授权年 | 更新时间 | |
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发明 2015107629466 一种三维非催化基底负载石墨烯薄膜结构及其在低温环境下的制备方法 1人 |
已下证 | 科研院所 | ||||
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发明 2018101963762 一种Co掺杂MoS2阵列原位电极的CVD制备方法 石墨材料 光电转化材料 复合材料 能量存储 转换材料 4人 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 2021107474526 一种硬质合金刀片及其制备方法（报过高新） 数控刀具 切削工具 五金 金属制品 机械设备 2人 B22F5/00 B22F3/24 C22C29/02 C22C1/051 C23C16/34 C23C16/36 C23C14/06 C25D9/04 C23C28/04 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2022101053091 一种粉末冶金复合材料及其制备方法 粉末冶金 粉末烧结 烧结炉 复合材料 散热基板 2人 |
未下证 | 企业 | ||||
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发明 202110347746X 一种磷化WS2纳米球催化剂制备方法及其应用 电解水制氢 清洁能源 析氢 电催化材料 氢能源 1人 C25B11/054 C25B11/091 C25B1/04 C23C16/28 C01G41/00 B82Y30/00 B82Y40/00 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 2017106008636 一种二硫化钼薄膜的制备方法（无证书原件，有扫描件） 二维薄膜材料 光催化应用 二硫化钼薄膜(MoS2) 二维薄膜材料 化学气相沉积法(CVD）二维光电子器件 光催化应用 无证书原件 有扫描件 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 2022101301871 一种化学气相沉积设备 化学气相沉积 化学 6人 |
已下证 | 个人 | ||||
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发明 2011103191204 一种透明超疏水表面材料的制备方法 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2018106459781 镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法 【镀膜腔室】 【镀膜腔室 镀膜】 电子 光电 【电子 光电】 2人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2017114293162 用于气相沉积的喷头 【半导体设备工艺 布气系统】 半导体工艺 芯片 晶圆薄膜沉积均匀 6人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2022101723144 一种宽频带低色散的光导纤维及其制备方法 真 光导纤维 光导纤维通信 【光导纤维 光导纤维通信 通信】 1光导纤维 4人 |
已下证 | 个人 | ||||
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发明 2021103704919 一种碳纤维肋骨的碳颗粒凝结脱落系统及其脱落方法（生物医疗、医疗器械、人造骨头、人工骨、假体、人造碳纤维） 生物医疗 医疗器械 人造骨头 人工骨 假体 5人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2016100383775 一种降低六方氮化硼二维薄膜厚度的方法 石墨烯制作 纳米二维电子器件 新材料 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 2018115110939 一种常压多层CVD反应器 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2018115169627 一种不锈钢隔片及其制备方法 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2020103583036 NiS₂增强石墨烯基SERS装置及其制备方法 SERS 新材料 纳米复合材料 NiS2 石墨烯基底 拉曼散射原理 表面增强拉曼散射光谱（SERS）装置 分子化学键振动信息探测 光检测 有机分子检测 生物分子检测 1人 C23C28/00 C23C16/26 C23C16/30 C23C16/455 C23C14/18 C23C14/35 G01N21/65 |
已下证 | 个人 | ||||
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发明 2021105009534 一种采用PECVD技术制备无机透明超疏水薄膜的方法 自清洁薄膜 光伏薄膜 幕墙薄膜 玻璃薄膜 【自清洁薄膜 光伏薄膜 幕墙薄膜 玻璃薄膜】 2人 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 2017100436531 一种氮化硼刻蚀的方法（无证书原件，有扫描件） 光刻 压印法 电介质材料 氮化硼薄膜蚀刻 薄膜光刻 1人 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 2019100428498 圆形磁力电极装置及包括其的卷绕式表面改性设备（分案） 卷绕真空镀膜 表面镀膜 表面改性 薄膜表面处理 功能性薄膜 1人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2015105114094 一种N掺杂SiC纳米针及其应用 1人 |
已下证 | 学校 |
