| 符合条件的5条专利数据 | 专利状态 | 申请人类型 | 缴费截止日 | 授权年 | 更新时间 | |
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发明 2022101301871 一种化学气相沉积设备 化学气相沉积 化学 5人 |
已下证 | 个人 | ||||
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发明 2017114293162 用于气相沉积的喷头 【半导体设备工艺 布气系统】 半导体工艺 芯片 晶圆薄膜沉积均匀 5人 |
已下证 | 企业 | ||||
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发明 2020103583036 NiS₂增强石墨烯基SERS装置及其制备方法 1人 C23C28/00 C23C16/26 C23C16/30 C23C16/455 C23C14/18 C23C14/35 G01N21/65 |
已下证 | 个人 | ||||
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发明 2017100436531 一种氮化硼刻蚀的方法（无证书原件，有扫描件） 光刻 压印法 电介质材料 氮化硼薄膜蚀刻 薄膜光刻 2人 |
已下证 | 学校 | ||||
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发明 201810678354X 一种用于制备新材料的化学气相沉积装置 新材料 气相 【新材料 气相】 【新材料 化学 气相沉积】 1人 |
已下证 | 个人 |
