| 符合条件的2条专利数据 | 专利状态 | 申请人类型 | 缴费截止日 | 授权年 | 更新时间 | |
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发明 2021111403148 一种采用退镀工艺制备图案化电极的方法 1人 C25F5/00 C25F7/00 C23C14/35 C23C14/18 C23C14/16 C25D7/12 C25D3/38 G03F7/00 |
已下证 | 科研院所 | ||||
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发明 2022100014456 一种悬臂形圆二色性微纳结构及其制备方法 生物技术 微纳结构 手性结构 贵金属 电子束刻蚀 【生物技术 微纳结构 手性结构 贵金属 电子束刻蚀】 2人 G02B1/00 G02B5/30 G03F7/00 G03F7/16 G03F7/20 G03F7/30 G03F7/40 |
已下证 | 学校 |
