符合条件的4条专利数据 专利状态 申请人类型 缴费截止日 授权年 更新时间

发明 2018106459781 镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法

【镀膜腔室】 【镀膜腔室 镀膜】 4人

H01J37/32 C23C16/44

已下证 企业

实用 2021226237447 一种等离子除胶装置(报过高企)

电子基板半导体 【电子基板半导体】 报过高企 1人

H01J37/32 H01L21/67 B08B7/00 B08B13/00

已下证 企业

发明 2018101589666 刻蚀电极和边缘刻蚀装置

半导体制造工艺 晶圆刻蚀机 半导体刻蚀机 半导体蚀刻 1人

H01J37/32

已下证 企业

发明 2018106112390 可检测气体泄漏的密闭腔体

半导体衬体 光刻 涂胶工艺 2人

H01L21/67 H01J37/32

已下证 企业