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H01J
H01J37/30
H01
H01J37
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条专利数据
专利状态
申请人类型
缴费截止日
授权年
更新时间
发明
2018111665399
一种用于晶圆生产离子注入的控制装置
半导体制造
集成电路制造
晶圆生产
晶圆加工
离子注入
1人
H01J37/317
H01J37/30
已下证
企业