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发明 2021106707618 一种基于Cr/Cu双层金属掩膜的硅湿法刻蚀方法

1人

H01L21/308 H01L21/306 B81C1/00 C23C14/16 C23C14/35 C23F1/02 C23F1/18 C23F1/38

已下证 科研院所